只做了光源的初步产品 硬吹成是EUV
正在中国上海举行的中国国际工业博览会上，一家上海新创厂商展出是7奈米以下最先进制程芯片所需极紫外光（EUV）微影设备样机。现在不光是国内自媒体海吹，其它地区也是，譬如台湾当地媒体中央广播电台，硬说上海这家公司做了EUV。但其实
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这家公司名叫朗道科技，官网参数显示该样机 FlintNano LPP-OXXO 的 EUV 输出 >15W，而商用门槛为数百瓦，ASML 自 2018 年起量产 250W 光源。
从15W 到数百瓦之间的功率跃升、寿命与长期稳定性尚无实测数据，公司自称量产需 3–5 年。
光源是光刻机三大核心子系统之一，光源、投影物镜、双工件台 + 系统集成。
该样机证明的是 "LPP 路线在中国走通了工程原理闭环"，且可用于芯片曝光测试、光刻胶 / 掩膜检测等低功率生态场合。
这些是它现阶段真实可落地的市场，而非装机量产线。
对 ASML 及 Cymera/ASML 光源体系零商业冲击。ASML EUV 整机含数十万零部件、800+ 供应商，光源只是其一；
国产即便光源成熟，仍需蔡司级物镜、双工件台、全系统集成同步突破。
TrendForce 9 月口径仍是 "中国 EUV 十年内难以量产”
最大的问题是这款光源系统长期只有渲染图和外观模型、无 EUV 输出实测波形 / 计量数据；
90% 国产化率始终无零部件清单；
高功率系列 FlintMicro-LPP 长期停留在 "原理论证完成"。
对公开市场仅构成国产替代主题的情绪催化，不改变任何上市公司当期基本面，相关 "概念股" 均无直接供货证据。
小功率与大功率不是一个物种，一个是猫咪一个是老虎，
说个例子，早年“激光刻图章”是30瓦，有人需要切纸板用50瓦，哈哈，我专门找人烧的50瓦管子，就是功率大一倍都不是说说而已，
15瓦翻到30瓦没有五年都过不去，
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